Постоянное уменьшение деталей является одной из основных проблем для дальнейшего развития электроники. В современных условиях производители используют технологию литографии, которая усложняет процесс за счёт необходимости использования множества слоев.
Однако в Национальной лаборатория Ок-Ридж (Oak Ridge National Laboratory) нашли способ создания нужных структур на невероятно тонком уровне. Исследователи разработали технику, использующую возможности электронного микроскопа, для создания схем чрезвычайно малого масштаба при помощи металлических чернил.
Первоначально команда создаёт масштабный шаблон для дальнейшего управления работой. Затем при помощи электронного микроскопа осуществляется воздействие пучком электронов на ячейки, заполненные раствором хлорида палладия в соответствии с заданным шаблоном. При этом в ячейках чистый палладий осаждается в местах воздействия микроскопа. Для получения заданной структуры необходимо контролировать лишь скорость микроскопа и поток электронов. Используя эту технику, исследователи смогли создать микроскопическую копию своего логотипа. Причём, технология всё ещё находится на этапе тестирования.
Отмечается, что до начала коммерческой эксплуатации данной технологии пройдёт ещё некоторое время. В настоящее время в лабораторных условиях исследователи способны размещать элементы лишь на 40-нанометровом уровне, в то время как многие современные чипы изготавливаются по нормам 14-нанометрового технологического процесса. Однако когда разработка будет полностью завершена, она позволит создавать электронику с высоким уровнем оптимизации, который практически недостижим для современных производственных методов.
Источник: Engadget