«На порядок дешевле, чем у ASML». Canon готовит тихую революцию на рынке машин для выпуска чипов

Опубликовал
Владимир Скрипин

Canon за пол шага до реализации тихой революции на рынке производства полупроводников — CEO японского техногиганта заявил, что новые машины для выпуска чипов окажутся на порядок дешевле наиболее технически прогрессивных EUV-систем нидерландского ASML стоимостью сотни миллионов долларов каждая, которые сейчас играют ключевую роль в технологическом. противостоянии США и Китая.

Речь идет о тех же машинах FPA-1200NZ2C на базе Nanoimprint lithography (она же нанопечатная литография, или тиснение, embossing) — если кратко, это более доступная альтернатива уже знакомой и обкатанной фотолитографии, которая является основной для производства полупроводниковых приборов.

CEO Canon Фудзио Митараи во время интервью в Токио 30 октября. Фото: Shoko Takayasu/ Bloomberg

«Цена будет на порядок ниже, чем у EUV-машин ASML», — заявил в недавнем интервью 88-летний Фудзио Митараи, который уже третий срок подряд занимает пост президента Canon с момента ухода от оперативного управления в 2016 году. В то же время он отметил, что окончательное решение по цене пока не принято.

Сейчас лишь несколько крупных игроков могут позволить себе инвестировать в дорогостоящее нидерландское оборудование, которое пристально отслеживается, потому что имеет ведущий статус в цепочке поставок технологий. И с одной стороны, у Canon есть хорошие шансы положить конец монополии нидерландской ASML, оборудование которой используют TSMC и Samsung для выпуска самых совершенных чипов – того же 3-нм Apple A17 Pro (iPhone 15 Pro и iPhone 15 Pro Max). Новые литографические машины Canon — потенциальная возможность снизить зависимость от EUV-технологии и шанс для меньших игроков побороться за свое место под солнцем на высококонкурентном рынке полупроводников.

А с другой стороны, как уже упоминалось ранее, ASML не экспортирует оборудование в Китай из-за действующих санкций – США сотрудничают с Японией и Нидерландами, чтобы помешать КНР получить доступ к передовым полупроводниковым технологиям. В то же время Bloomberg недавно сообщал, что китайская SMIC использовала оборудование нидерландской ASML для производства усовершенствованного процессора для смартфона Huawei. Пока что технология Nanoimprint lithography, вообще не привлекающая фотолитографию, не подпадает под санкции. В то же время, в Canon вполне осознают высокую вероятность введения экспортных ограничений, чтобы дальше сдерживать военно-технологический прогресс Китая.

«Я понимаю, что экспорт чего-либо превосходящего 14-нм технологию запрещен, поэтому я не думаю, что мы сможем продавать (оборудование в Китай)».

Фудио Митараи,

CEO и президент Canon

Ключевое отличие Nanoimprint lithography заключается в использовании давления (вместо света) для создания необходимого узора на кремниевой пластине. Новые машины Canon способны производить микросхемы, которые тождественны 5-нм «камешкам», выпускаемым с использованием более прогрессивной технологии литографии в глубоком ультрафиолете (EUV), где как раз доминирует нынешний лидер и фактический монополист — уже упомянутая ASML Holding NV. Уже в следующем поколении Canon планирует перескочить до 2 нм (сейчас TSMC, и южнокорейская Samsung — два крупнейших производителя полупроводников — стремятся начать выпуск 2-нм продукции в 2025 году) и существенно улучшить собственные позиции.

Canon строит первый за два десятилетия новый завод для выпуска литографического оборудования в Уцуномии, к северу от Токио. С нового конвейера оборудование начнет сходить в 2025 году. Если вдруг упустить октябрьскую публикацию, посвященную коммерциализации Canon технологии Nanoimprint lithography и потенциальному влиянию на мировой рынок в контексте усиления технологического противостояния между США и Китаем, можете наверстать и восполнить пробелы в знаниях.

Disqus Comments Loading...