В настоящее время Toshiba является вторым в мире по величине после Samsung производителем флеш-чипов. Компания уже заказала у поставщика (ASML) оборудование, необходимое для выпуска чипов по нормам технологического процесса мене 25 нм. В настоящее время Toshiba выпускает флеш-чипы NAND по нормам 43- и 32-нанометрового технологического процессов. Переход на более тонкий техпроцесс позволит повысить емкость чипов, снизить себестоимость их производства, а также понизить уровень их энергопотребления и тепловыделения.
Toshiba планирует начать производство флеш-чипов NAND, выполненных по технологическому процессу от 20 до 29 нм, уже в скором времени. Представитель компании заявил, что чипы, изготовленные по нормам 25-нанометровой технологии и выше, должны поступить в серийное производство уже во второй половине этого года. О сроках выпуска устройств по нормам техпроцесса от 20 до 25 нм пока не сообщается. Освоение технологических процессов до 20 нм планируется завершить в начале 2012 года.
Также представитель компании Toshiba отметил, что в настоящее время ведутся переговоры с ASML относительно покупки дополнительного оборудования для EUV (extreme ultraviolet) литографии.