ASML та Intel заявили, що остання досягла значного успіху в роботі з новітньою літографічною системою ASML High-NA, увімкнувши джерело світла і зробивши так, щоб світловий потік потрапляв на підкладку. Це свідчить про те, що джерело світла і дзеркала вирівняні правильно, що є критично важливим кроком у процесі вирощування. «Перше світло» свідчить про те, що один з основних компонентів системи Twinscan EXE:5000 працює, хоча ще й не на піку продуктивності.
Наразі Intel збирає свою першу літографічну машину Twinscan EXE:5000 на своєму заводі поблизу Хіллсборо, штат Орегон. Машина буде використовуватися в першу чергу для розробки технологічних процесів, коли її зберуть через кілька місяців, передає Tom’s Hardware.
Фахівці ASML все ще калібрують інструмент High-NA в Нідерландах, тому машина ще має надрукувати перші тестові зразки. Під час нещодавнього випробування машина Veldhoven успішно продемонструвала свої можливості на кремнієвій пластині, підготовленій за допомогою фоторезисторів, що свідчить про її готовність до друку друкованих схем. Це досягнення, яке називають «Першим світлом на пластині», знаменує значний крок вперед у галузі високоабсорбційної УФ-літографії.
Очікується, що протягом наступних кількох років провідні виробники мікросхем, в тому числі Intel, Samsung і TSMC, перейдуть на літографію з використанням ультрафіолетового випромінювання з високою роздільною здатністю. Intel вже висловила наміри використовувати цю систему для майбутнього покоління мікросхем на базі вузлів Intel 14A.
Джерело світла є однією з найскладніших частин будь-якого інструменту для літографії в екстремальному ультрафіолеті (EUV). Ні ASML, ні Intel не розкривають максимальну потужність джерела світла Twinscan EXE.