Голландський виробник напівпровідникового обладнання ASML заявив про постачання корпорації Intel першої зі своїх нових систем літографії в екстремальному ультрафіолеті High NA.
Як очікується, нові машини допоможуть виробникам виготовляти менші за розміром та швидші напівпровідникові чипи. Вартість кожної такої системи становить понад $300 млн.
ASML опублікувала в соціальній мережі X (раніше Twitter) зображення одного сегмента машини, що вирушає з її штаб-квартири у Вельдховені, Нідерланди. Устаткування постачається у захисному контейнері, пов’язаному червоною стрічкою.
Як повідомляють обізнані джерела, обладнання відправляється на завод Intel D1X в Орегоні. D1X – це фабрика, де Intel розробляє та вдосконалює свої майбутні виробничі технології. Представники Intel та ASML не прокоментували призначення системи.
«Ми раді і пишаємося тим, що поставляємо нашу першу систему High NA EUV компанії Intel», ─ йдеться у заяві ASML.
ASML є домінуючим виробником ринку устаткування літографії — машин, які використовують лазери до створення схем чипів. Машини High NA, які у зібраному вигляді будуть більшими за вантажівку, поставляються у 250 окремих ящиках, включаючи 13 великих контейнерів. Очікується, що вони будуть використовуватись у комерційному виробництві чипів, починаючи з 2026 чи 2027 року.
Intel замовила перші пілотні машини High NA у 2022 році. Серед інших виробників чипів, які замовили ці машини ─ TSMC, Samsung, SK Hynix і Micron.
Джерело: reuters