Компанія ASML повідомила, що її новітні інструменти для виробництва мікросхем High-NA extreme ultraviolet (EUV), які називаються High-NA Twinscan EXE, коштуватимуть близько $380 млн кожна — понад ніж удвічі більше, ніж актуальні системи літографії Low-NA EUV, які коштують близько $183 млн.