Японська Canon кидає виклик нідерландському виробнику літографічного обладнання ASML (лідер та фактичний монополіст) — вона почала продавати новітні системи наноструктурної літографії для виробництва найсучасніших напівпровідників, повідомляють CNBC та Bloomberg.
Дефіцит мікросхем, що здавався найбільшою проблемою пандемічного 2020-го, зараз вже ніхто не згадує, але він запустив тектонічні зрушення в напівпровідниковій індустрії, які лише посилилися зі вторгненням рф. Сьогодні японський технологічний гігант Canon, відомий насамперед камерами та принтерами, випустив на ринок нову літографічну установку під назвою FPA-1200NZ2C. Вона позиціюється як простіша та доступніша альтернатива найбільш технічно прогресивному обладнанню ASML, на якому виготовляються найдосконаліші на сьогодні чипи, як-от SoC Apple A17 Pro (iPhone 15 Pro та iPhone 15 Pro Max). Нагадаємо, процесори випускає TSMC на техпроцесі 3-нм (N3E).
Нова система Canon використовує технологію Nanoimprint lithography (наноструктурної літографії) та здатна виробляти мікросхеми, які тотожні 5-нм чипам, виготовленим з використанням більш прогресивної технології літографії в глибокому ультрафіолеті (EUV), де якраз домінує лідер галузі — вже згадана ASML Holding NV. І Canon розраховує у наступному поколінні перескочити до 2 нм. Так, наразі Canon, як і її місцевий суперник Nikon, відстає від ASML в EUV-перегонах, але новий підхід до наноструктурної літографії — хороший шанс скоротити відставання. До речі, і TSMC, і південнокорейська Samsung — дві найбільші виробники напівпровідників — прагнуть почати випуск 2-нм продукції у 2025 році.
Nanoimprint lithography — доступніша альтернатива вже добре знайомій і обкатаній фотолітографії. Раніше цей метод активно просували виробники пам’яті SK Hynix та Toshiba, а Kioxia (колишня Toshiba Memory) навіть тестував обладнання Canon на етапі незрілості технології та високого рівня браку. Тепер Canon рішуче налаштована довести справу до кінця — і довести, що минулі проблеми, як низький відсоток виходу якісної продукції, вже позаду.
У 2014 році Canon купила Molecular Imprints, яка вважається зачинателем Nanoimprint lithography, і відтоді майже десять років активно розробляла технологію. Прямо зараз Canon будує перший за два десятиліття новий завод для випуску літографічного обладнання в Уцуномії, на північ від Токіо. З нового конвеєра обладнання почне сходити у 2025 році.
Нове обладнання Canon цілком може запустити новий виток конфлікту між США та Китаєм, адже санкції на імпорт в Китай обладнання EUV — наразі єдиного надійного методу виготовлення чипів 5 нм і «тонше» — ніхто не скасовував. Відтоді як уряд Нідерландів заборонив ASML експортувати літографічне обладнання EUV в Китай, компанія не відправила жодної машини. Водночас технологія Canon взагалі не залучає фотолітографію, а натомість використовує тиск для створення необхідного «візерунку» на кремнієвій пластині. Чи потрібно окремо розповідати, наскільки важливими такі мікросхеми для створення, зокрема, сучасної військової техніки?
В Canon відмовилися коментувати, чи підпадатиме нове обладнання під експортні обмеження Японії, і чи планує компанія постачати його в Китай.
Нещодавно Reuters повідомляло, що США попередили Китай про плани оновити правила, які визначають обмеження щодо постачання мікросхем ШІ та інструментів для виробництва напівпровідників.