Японська Canon кидає виклик нідерландському виробнику літографічного обладнання ASML (лідер та фактичний монополіст) — вона почала продавати новітні системи наноструктурної літографії для виробництва найсучасніших напівпровідників, повідомляють CNBC та Bloomberg.
Кінець монополії ASML?
Дефіцит мікросхем, що здавався найбільшою проблемою пандемічного 2020-го, зараз вже ніхто не згадує, але він запустив тектонічні зрушення в напівпровідниковій індустрії, які лише посилилися зі вторгненням рф. Сьогодні японський технологічний гігант Canon, відомий насамперед камерами та принтерами, випустив на ринок нову літографічну установку під назвою FPA-1200NZ2C. Вона позиціюється як простіша та доступніша альтернатива найбільш технічно прогресивному обладнанню ASML, на якому виготовляються найдосконаліші на сьогодні чипи, як-от SoC Apple A17 Pro (iPhone 15 Pro та iPhone 15 Pro Max). Нагадаємо, процесори випускає TSMC на техпроцесі 3-нм (N3E).
Nanoimprint lithography — доступніша альтернатива фотолітографії
Нова система Canon використовує технологію Nanoimprint lithography (наноструктурної літографії) та здатна виробляти мікросхеми, які тотожні 5-нм чипам, виготовленим з використанням більш прогресивної технології літографії в глибокому ультрафіолеті (EUV), де якраз домінує лідер галузі — вже згадана ASML Holding NV. І Canon розраховує у наступному поколінні перескочити до 2 нм. Так, наразі Canon, як і її місцевий суперник Nikon, відстає від ASML в EUV-перегонах, але новий підхід до наноструктурної літографії — хороший шанс скоротити відставання. До речі, і TSMC, і південнокорейська Samsung — дві найбільші виробники напівпровідників — прагнуть почати випуск 2-нм продукції у 2025 році.
Nanoimprint lithography — доступніша альтернатива вже добре знайомій і обкатаній фотолітографії. Раніше цей метод активно просували виробники пам’яті SK Hynix та Toshiba, а Kioxia (колишня Toshiba Memory) навіть тестував обладнання Canon на етапі незрілості технології та високого рівня браку. Тепер Canon рішуче налаштована довести справу до кінця — і довести, що минулі проблеми, як низький відсоток виходу якісної продукції, вже позаду.
У 2014 році Canon купила Molecular Imprints, яка вважається зачинателем Nanoimprint lithography, і відтоді майже десять років активно розробляла технологію. Прямо зараз Canon будує перший за два десятиліття новий завод для випуску літографічного обладнання в Уцуномії, на північ від Токіо. З нового конвеєра обладнання почне сходити у 2025 році.
Новий фронт у протистоянні між США та Китаєм
Нове обладнання Canon цілком може запустити новий виток конфлікту між США та Китаєм, адже санкції на імпорт в Китай обладнання EUV — наразі єдиного надійного методу виготовлення чипів 5 нм і «тонше» — ніхто не скасовував. Відтоді як уряд Нідерландів заборонив ASML експортувати літографічне обладнання EUV в Китай, компанія не відправила жодної машини. Водночас технологія Canon взагалі не залучає фотолітографію, а натомість використовує тиск для створення необхідного «візерунку» на кремнієвій пластині. Чи потрібно окремо розповідати, наскільки важливими такі мікросхеми для створення, зокрема, сучасної військової техніки?
Вакансії
Журналіст, автор історій про IT, бізнес та людей в MC.today MC.today
В Canon відмовилися коментувати, чи підпадатиме нове обладнання під експортні обмеження Японії, і чи планує компанія постачати його в Китай.
Нещодавно Reuters повідомляло, що США попередили Китай про плани оновити правила, які визначають обмеження щодо постачання мікросхем ШІ та інструментів для виробництва напівпровідників.