Голландский производитель полупроводникового оборудования ASML заявил о поставке корпорации Intel первой из своих новых систем литографии в экстремальном ультрафиолете High NA.
Как ожидается, новые машины помогут производителям изготавливать меньшие по размеру и более быстрые полупроводниковые чипы. Стоимость каждой такой системы составляет более $300 млн
ASML опубликовала в социальной сети X (ранее Twitter) изображение одного сегмента машины, отправляющейся из ее штаб-квартиры в Вельдховене, Нидерланды. Оборудование поставляется в защитном контейнере, повязанном красной лентой.
A decade of groundbreaking science and systems engineering deserves a bow! 🎀 We're excited and proud to ship our first High NA EUV system to @intel. ✈️🌎 pic.twitter.com/wtVn4fmq9D
— ASML (@ASMLcompany) December 21, 2023
Как сообщают осведомленные источники, оборудование отправляется на завод Intel D1X в Орегоне. D1X — это фабрика, где Intel разрабатывает и совершенствует свои будущие производственные технологии. Представители Intel и ASML не прокомментировали предназначение системы.
«Мы рады и гордимся тем, что поставляем нашу первую систему High NA EUV компании Intel», — говорится в заявлении ASML.
ASML является доминирующим производителем на рынке оборудования литографии — машин, которые используют лазеры для создания схем чипов. Машины High NA, которые в собранном виде будут больше грузовика, поставляются в 250 отдельных ящиках, включая 13 больших контейнеров. Ожидается, что они будут использоваться в коммерческом производстве чипов, начиная с 2026 или 2027 года.
Intel заказала первые пилотные машины High NA в 2022 году. Среди других производителей чипов, заказавших эти машины, — TSMC, Samsung, SK Hynix и Micron.
Источник: reuters