Новини Пристрої 06.11.2023 о 12:19 comment views icon

«На порядок дешевше, ніж в ASML». Canon готує тиху революцію на ринку машин для випуску чипів 

author avatar
https://itc.ua/wp-content/uploads/2022/04/vova-96x96.jpeg *** https://itc.ua/wp-content/uploads/2022/04/vova-96x96.jpeg *** https://itc.ua/wp-content/uploads/2022/04/vova-96x96.jpeg

Володимир Скрипін

Заступник головного редактора, керівник відділу новин

Canon за пів кроку до реалізації тихої революції на ринку виробництва напівпровідників — CEO японського техногіганта заявив, що нові машини для випуску чипів будуть на порядок дешевшими за найбільш технічно прогресивні EUV-системи нідерландського ASML вартістю сотні мільйонів доларів кожна, які наразі відіграють ключову роль у технологічному протистоянні США та Китаю.

Віддамо футболку Збірної України з футболу з підписами гравців за донат від 200 грн на ЗСУ. У описі до донату обов'язково вказуй номер мобільного, щоб ми вручили приз! Кожні додаткові 200 грн у донаті +1 шанс на виграш!
Взяти участь

Йдеться про ті самі машини FPA-1200NZ2C на базі Nanoimprint lithography (вона ж нанодрукована літографія, або тиснення, embossing) — якщо стисло, це доступніша альтернатива вже знайомої та обкатаної фотолітографії, яка наразі є основною для виробництва напівпровідникових приладів.

CEO Canon Фудзіо Мітараі
CEO Canon Фудзіо Мітараі під час інтерв’ю в Токіо 30 жовтня. Фото: Shoko Takayasu/Bloomberg

«Ціна буде на порядок нижча, ніж в EUV-машин ASML», — заявив у нещодавньому інтерв’ю 88-річний Фудзіо Мітараі, який вже третє поспіль обіймає посаду президента Canon з моменту відходу від оперативного управління  у 2016 році. Водночас він зауважив, що остаточне рішення щодо ціни поки не прийнято.

Зараз лише кілька великих гравців можуть дозволити собі інвестувати в дороге нідерландське обладнання, яке пильно відстежується, бо має провідний статус у ланцюжку постачання технологій. І з одного боку,  у Canon є хороші шанси покласти край монополії нідерландської ASML, обладнання якої використовують TSMC та Samsung для випуску найдосконаліших чипів — того ж 3-нм Apple A17 Pro (iPhone 15 Pro та iPhone 15 Pro Max). Нові літографічні машини Canon — потенційна можливість зменшити залежність від EUV-технології та шанс для менших гравців поборотися за своє місце під сонцем на висококонкурентному ринку напівпровідників.

А з іншого боку, як вже згадувалось раніше, ASML не експортує обладнання в Китай через чинні санкції — США співпрацюють з Японією та Нідерландами, щоб перешкодити КНР отримати доступ до передових напівпровідникових технологій. Водночас Bloomberg нещодавно повідомляв, що китайська SMIC використовувала обладнання нідерландської ASML для виробництва вдосконаленого процесора для смартфона Huawei. Поки що технологія Nanoimprint lithography, яка взагалі не залучає фотолітографію, не підпадає під санкції. Водночас в Canon цілком усвідомлюють високу ймовірність введення експортних обмежень, щоб далі стримувати військово-технологічний прогрес Китаю.

«Я розумію, що експорт будь-чого, що перевершує 14-нм технологію, заборонено, тому я не думаю, що ми зможемо продавати (устаткування в Китай)».

Фудзіо Мітараі,

CEO та президент Canon

Ключова відмінність Nanoimprint lithography полягає у використанні тиску (замість світла) для створення необхідного «візерунку» на кремнієвій пластині. Нові машини Canon здатні виготовляти мікросхеми, які тотожні 5-нм «камінцям», які випускаються з використанням більш прогресивної технології літографії в глибокому ультрафіолеті (EUV), де якраз домінує нинішній лідер та фактичний монополіст — вже згадана ASML Holding NV. Вже у наступному поколінні Canon планує перескочити до 2 нм (наразі TSMC, і південнокорейська Samsung — дві найбільші виробники напівпровідників — прагнуть почати випуск 2-нм продукції у 2025 році) та істотно покращити власні позиції.

Курс Англійської.
Онлайн-навчання англійської за методикою Кембриджу - вибір понад мільярда людей.
Вивчити курс

Наразі Canon будує перший за два десятиліття новий завод для випуску літографічного обладнання в Уцуномії, на північ від Токіо. З нового конвеєра обладнання почне сходити у 2025 році. Якщо раптом проґавити жовтневу публікацію, присвячену комерціалізації Canon технології Nanoimprint lithography та потенційному впливу на світовий ринок в контексті посилення технологічного протистояння між США та Китаєм, можете надолужити та заповнити прогалини в знаннях.

Посунься, ASML: у Canon з’явилося літографічне обладнання для випуску чипів 5 нм вже зараз, а згодом — 2 нм. Чи отримає його Китай?

Завантаження коментарів...

Повідомити про помилку

Текст, який буде надіслано нашим редакторам: