Новости
«Начало новой эпохи в полупроводниковой отрасли»: Samsung приступила к производству 7-нм продукции с использованием EUV-литографии
94

«Начало новой эпохи в полупроводниковой отрасли»: Samsung приступила к производству 7-нм продукции с использованием EUV-литографии

«Начало новой эпохи в полупроводниковой отрасли»: Samsung приступила к производству 7-нм продукции с использованием EUV-литографии

Компания Samsung Electronics сегодня сообщила о том, что она полностью завершила разработку и уже начала производство полупроводниковой продукции по новому 7-нанометровому техпроцессу 7LPP (Low Power Plus). Особо следует подчеркнуть, что 7LPP – это первый техпроцесс южнокорейского производителя, основанный на новом методе литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Кроме того, Samsung стала первой, кто начала применять EUV для производства коммерческих микросхем. По словам компании, переход на техпроцесс 7LPP наглядная демонстрация серьезности намерений в плане внедрения инноваций и освоения новых технологии вплоть до норм 3 нм.

Исполнительный вице-президент по продажам и маркетингу Samsung Electronics Чарли Бэи охарактеризовал это событие (внедрение 7LPP) «тихой революцией в полупроводниковой отрасли».

Как можно догадаться из названия, техпроцесс 7LPP оптимизирован по критерию энергопотребления. Он будет использоваться для выпуска широкого спектра микросхем нового поколения, призванных расширить границы возможностей в различных сегментах, таких как 5G, ИИ, IoT, корпоративные и гипермасштабируемые дата-центры, автомобили и вычислительные сети. Известно, что Qualcomm будет использовать технологию Samsung 7LPP для производства микросхем Snapdragon с поддержкой 5G.

Главное отличие EUV от широко используемой сейчас в полупроводниковой отрасли иммерсионной литографии (DUV) заключается в использовании источника излучения с гораздо меньшей длиной волны – 13,5 нм против 193 нм. Улучшенная технология позволяет уменьшить количество применяемых при производстве фотомасок (на 20%), обеспечивая возможность сократить производственный цикл, снизить затраты, а также повысить процент выхода годной продукции.

По сравнению с предыдущей технологией 10LPE, новая 7LPP, как утверждается, позволяет уменьшить площадь микросхемы на 40% при одновременном снижении потребления энергии на 50% или повышении производительности на 20%. То есть, EUV-литография обеспечивает возможность размещать внутри SoC нового поколения на 40% больше транзисторов при одновременном повышении производительности или уменьшении потребляемой мощности.

Сейчас только на фабрике Fab S3 (Хвасон, Южная Корея) есть линии , оснащенные EUV-сканерами ASML Twinscan NXE: 3400B для производства продукции по нормам техпроцесса 7LPP.

Ожидается, что первые смартфоны на SoC нового поколения, произведенных по нормам техпроцесса 7LPP, выйдут уже в начале 2019 года. Само собой, это будут смартфоны Samsung. Следующим этапом должно стать расширение использования EUV-литографии и массовый выпуск различной продукции по нормам техпроцесса 7LPP после ввода в эксплуатацию нового строящегося сейчас завода в Хвасоне (на заглавном фото) стоимостью 6 триллионов вон ($5,3 млрд). Достроить его должны в следующем году, а в 2020 году там начнут массовый выпуск продукции по технологии 7LPP.

Что касается Intel, некогда являвшаяся крупнейшим в мире производителем микросхем, по последним данным, компания из Санта-Клары, которая сейчас испытывает трудности с обычной литографией на этапе 10 нм, решила выйти из гонки и пока отложить освоение EUV.

Остается добавить, что полупроводниковой индустрии потребовалось целых 33 года, чтобы перейти к литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне, так что это, безусловно, начало новой эпохи.

Источник: Samsung


Сообщить об опечатке

Текст, который будет отправлен нашим редакторам: