Схоже, що можливості Китаю у виробництві мікросхем швидко зростають. Місцева компанія створила першу систему електронно-променевої літографії для комерційного використання.

Зазвичай у сфері літографічного обладнання Китай суттєво відстає від західних конкурентів, оскільки не має доступу до передових установок компанії ASML. Це головний бар’єр для створення високопродуктивних напівпровідників. Попри це, китайські компанії намагаються розробляти власні системи EUV-літографії, хоча на їх появу піде чимало часу.

Як повідомляє SCMP, дослідники з квантової технологічної лабораторії університету Чжецзян у Ханчжоу розробили першу установку електронно-променевої літографії (EBL). Ця машина отримала назву Xizhi — на честь знаменитого давньокитайського каліграфа Ван Січжи.  Пристрій використовує сфокусований електронний промінь, щоб “писати” схеми мікросхем на кремнієвих пластинах.

У 2022 році Бюро промисловості та безпеки США запровадило експортні обмеження на обладнання для виробництва напівпровідників, зокрема й на системи електронно-променевої літографії. Вашингтон також тиснув на свого союзника — Нідерланди, аби обмежити компанію ASML у продажу найбільш передових технологій китайським замовникам відповідно до обмежень, ухвалених урядом Нідерландів. Після обмежень з боку США, Китай активізував зусилля з локалізації виробництва передових мікросхем. І останні досягнення посилюють науково-дослідний потенціал Китаю.

Хоча нова китайська розробка далека від рівня ASML High-NA EUV, проте вона має схожі риси. Xizhi може формувати лінії схем завширшки до 8 нм із точністю позиціонування 0,6 нм, що відповідає міжнародним стандартам. Але ключовий недолік полягає у особливостях роботи та продуктивності. Машини електронно-променевої літографії забезпечують високоточне нанесення схем і більшу гнучкість у проєктуванні. Обробка відбувається точка за точкою, тому на формування однієї пластини можуть піти години. Все це робить пристрій придатним лише для досліджень, тестувань і створення прототипів, але не для масового виробництва.

На практиці Китай досі покладається на DUV-системи для випуску більшості комерційних мікросхем. Новий інструмент може допомогти скоротити відставання у сфері наукових розробок від західних компаній, проте для серійного виробництва він малопридатний. США й надалі залишаються попереду у виробничих технологіях, але розрив поступово скорочується. І те, як саме технологія EBL вплине на амбіції Китаю в галузі виробництва чипів, стане очевидним у найближчі роки.

Джерело: wccftech