Новости Технологии 14.02.2024 в 17:09 comment views icon

Новые инструменты для производства микросхем ASML подорожают вдвое — до $380 млн. 10-20 единиц уже забронировано

author avatar
https://itc.ua/wp-content/uploads/2023/07/2023-07-19-12.08.01-2-96x96.jpg *** https://itc.ua/wp-content/uploads/2023/07/2023-07-19-12.08.01-2-96x96.jpg *** https://itc.ua/wp-content/uploads/2023/07/2023-07-19-12.08.01-2-96x96.jpg

Юрій Орос

Автор новостей

Новые инструменты для производства микросхем ASML подорожают вдвое — до $380 млн. 10-20 единиц уже забронировано

Раздел Технологии выходит при поддержке Favbet Tech

Компания ASML сообщила, что ее новейшие инструменты для производства микросхем High-NA extreme ultraviolet (EUV), которые называются High-NA Twinscan EXE, будут стоить около $380 млн каждая — более чем вдвое больше, чем актуальные системы литографии Low-NA EUV, которые стоят около $183 млн.

Компания получила 10-20 первых заказов от таких компаний, как Intel и SK Hynix, и планирует к 2028 году производить 20 систем High-NA ежегодно, чтобы удовлетворить спрос. Технология High-NA EUV должна быть значительным прорывом, поскольку позволяет улучшить разрешение отпечатков до 8 нм по сравнению с 13 нм в нынешних инструментах Low-NA EUV, передает TechPowerUp. Она позволит производить транзисторы, которые почти в 1,7 раза меньше, что означает тройное увеличение плотности транзисторов на микросхеме. Достижение такого уровня точности является критически важным для производства микросхем с технологическими нормами до 3 нм, что является целью отрасли на 2025-2026 годы. Это также устраняет потребность в сложных технологиях двойного шаблонирования, которые используются сейчас.

Однако, более высокая производительность имеет свою цену — в прямом и переносном смысле. Огромная цена в $380 млн долларов за каждую систему High-NA создает финансовые проблемы для производителей микросхем. Кроме того, более крупные инструменты High-NA требуют полной реконфигурации производственных мощностей для изготовления микросхем. Уменьшенное вдвое поле изображения также требует переосмысления дизайна микросхем. Как следствие, сроки внедрения отличаются в разных компаниях — Intel намерена развернуть High-NA EUV на усовершенствованном узле 1,8 нм (18A), тогда как TSMC придерживается более консервативного подхода, потенциально планирует внедрение только в 2030 году и не спешит с использованием этих литографических машин, поскольку узлы компании уже развиваются хорошо и своевременно.

Интересно, что процесс установки 150 000-килограммовой системы High-NA Twinscan EXE от ASML требуют 250 ящиков, 250 инженеров и шесть месяцев для завершения. Таким образом, установка и эксплуатация этой деликатной техники будет столь же сложной, как и производство.

Раздел Технологии выходит при поддержке Favbet Tech

Favbet Tech – это IT-компания со 100% украинской ДНК, которая создает совершенные сервисы для iGaming и Betting с использованием передовых технологий и предоставляет доступ к ним. Favbet Tech разрабатывает инновационное программное обеспечение через сложную многокомпонентную платформу, способную выдерживать огромные нагрузки и создавать уникальный опыт для игроков. IT-компания входит в группу компаний FAVBET.


Loading comments...

Сообщить об опечатке

Текст, который будет отправлен нашим редакторам: